Metalinis taikinys Purškimo pagrindai
Tikslas yra tiesiog elektronų panaudojimas arba didelės energijos lazerinis bombardavimas dangoms purškiant. Galiausiai paviršiaus komponentai nusodinami ant pagrindo paviršiaus po to, kai išpurškiami kaip atominės grupės arba jonai, vyksta plėvelės formavimo procesas ir susidaro plona plėvelė.
Purškiamųjų dangų yra įvairių. Paprastai jie yra garavimo danga. Purškimo greitis bus vienas iš pagrindinių parametrų, o tai skiriasi. Purškiančioje dangoje esanti lazeriu purškianti danga yra paprasta, kad kompozicija būtų vienoda, tačiau storio vienodumas atominėje skalėje yra gana prastas (nes tai impulsinis purškimas), o kristalų orientacijos (išorinio krašto) augimo kontrolė yra gana bendra.
Pagrindo ir tikslinės medžiagos tinklelio atitikimo laipsnis, dangos aplinka (žemo slėgio dujų atmosfera), pagrindo temperatūra, lazerio galia, impulsų dažnis ir purškimo laikas yra svarbūs pld parametrai, kaip pavyzdys. . Idealūs parametrai reikalingi įvairiems pagrindams ir purškimo medžiagoms. Pagal eksperimentus jie yra skirtingi. Dengimo įrangos gebėjimas tiksliai valdyti temperatūrą, užtikrinti gerą vakuumą ir palaikyti švarią vakuumo kamerą yra trys pagrindiniai veiksniai, lemiantys jos kokybę.
